Microscopic Mechanisms of Reaction-Coupled Acid Diffusion in Chemically Amplified Photoresists
Diffusion in photoresists is a fundamental process that significantly impacts micro-nano manufacturing. However, it often intertwines with chemical reactions, leading to intricate kinetics that compounds our comprehension. Here, we successfully applied all-atom molecular dynamics simulations to simu...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , , , , |
| منشور في: |
2024
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
كن أول من يترك تعليقا!