Supplement S1 and S2
S.1. XRD measurement of the annealed layer on silicon. No characteristic peaks can be observed S.2. FFT analysis of the as-deposited amorphous layer
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , , , |
| منشور في: |
2025
|
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|