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Detalhes bibliográficos
Autor principal:	Chao Zhou (471522) (author)
Outros Autores:	Yangyang Si (19732138) (author), Sizhe Huang (12267404) (author), Shanquan Chen (3417512) (author), Hailin Wang (67695) (author), Gen Long (1623961) (author), Haoliang Huang (1780753) (author), Zuhuang Chen (1511185) (author)
Publicado em:	2025
Assuntos:	Physical sciences ferroelectric HfO2 thin films strain effect
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