Supplemental Information

Gorde:

Xehetasun bibliografikoak
Egile nagusia:	Yi Chen (38576) (author)
Beste egile batzuk:	Daniel Cho (6813263) (author), John Hoang (4244698) (author), Nick Altieri (21377180) (author), Ji Zhu (106734) (author), Samantha Tan (21377183) (author), Jane Chang (446866) (author)
Argitaratua:	2025
Gaiak:	Chemical sciences Thermal etch Selective SiGe etch Kinetics model
Etiketak:	Etiketa erantsi Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!

Antzeko izenburuak