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Autore principale:	Yi Chen (38576) (author)
Altri autori:	Daniel Cho (6813263) (author), John Hoang (4244698) (author), Nick Altieri (21377180) (author), Ji Zhu (106734) (author), Samantha Tan (21377183) (author), Jane Chang (446866) (author)
Pubblicazione:	2025
Soggetti:	Chemical sciences Thermal etch Selective SiGe etch Kinetics model
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