Gas Phase Deposition of Trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane on Silicon Dioxide, by XPS
Monolayers of trichloro(lH,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane, Cl3SiCH2CH2(CF2)5CF3, were deposited via chemical vapor deposition onto the native oxide layer on silicon after plasma-cleaning. The samples have high hydrophobicity, and provide a valuable comparison to perfluorinated alkyl silane layers ob...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | , , |
| التنسيق: | article |
| منشور في: |
2012
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/11073/21342 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|